鐳射膜的制作工藝比較復(fù)雜。它采用的是真空腔鍍鋁方式。將蒸發(fā)舟加熱至1400—1500℃，連續(xù)送到蒸發(fā)舟上的鋁絲冷化成鋁蒸汽，由于基膜具有靜電吸附力，將鋁分子吸附在薄膜表面，再經(jīng)過冷卻沉積，從而將鋁均勻地噴鍍?cè)谶B續(xù)卷取的薄膜表面形成鍍鋁膜，再經(jīng)過激光雕刻的鐳射版包在輥筒上，在130℃的溫度下模壓后，形成鐳射膜。鐳射版包在輥筒上，不能夠完全無縫結(jié)合，于是就在鐳射膜上留下了0.5mm-2mm的版縫