發(fā)布時(shí)間：2012/3/19 來(lái)源： 關(guān)鍵詞：
鍍鋁薄膜通常應(yīng)用于具有阻隔性或遮光性要求的包裝上使用，因此，鍍鋁層的厚度和表面狀況以及附著牢度的大小將直接影響其上述性能。鍍鋁膜的檢驗(yàn)主要體現(xiàn)在厚度、鍍鋁層牢度和鍍鋁層的表面狀況等方面。
1、鍍鋁層厚度測(cè)量
由于真空鍍鋁薄膜上的鍍鋁層非常薄，因此不能用常規(guī)的測(cè)厚儀器檢測(cè)其厚度，常用的檢測(cè)方法有：
電阻法
電阻法是利用歐姆定律來(lái)對(duì)鍍鋁層的厚度進(jìn)行測(cè)量，根據(jù)歐姆定律R＝ρ×L/S，單位面積鍍鋁薄膜的電阻值越小，其鍍鋁層的厚度越厚，反之則越薄。
電阻法檢測(cè)鍍鋁層的厚度用表面電阻來(lái)表示，單位是Ω/□，數(shù)值越大說(shuō)明鍍鋁層厚度越薄，一般真空鍍鋁薄膜的表面電阻值為1.0－2.5Ω/□，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T 15717-1995《真空金屬鍍層厚度測(cè)試方法電阻法》對(duì)這一方法進(jìn)行了詳細(xì)的規(guī)定。
光密度法
光密度（OD）定義為材料遮光能力的表征。它用透光鏡測(cè)量。光密度沒(méi)有量綱單位，是一個(gè)對(duì)數(shù)值，通常僅對(duì)鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測(cè)量。
光密度是入射光與透射光比值的對(duì)數(shù)或者說(shuō)是光線透過(guò)率倒數(shù)的對(duì)數(shù)。計(jì)算公式為
OD=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）
通常鍍鋁膜的光密度值為1－3（即光線透過(guò)率為10％－0.1％），數(shù)值越大鍍鋁層越厚，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)局的ANSI/NAPM IT2.19對(duì)試驗(yàn)條件做了詳細(xì)規(guī)定。
OD值、方阻值和鋁層厚度對(duì)照表
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OPITICAL DENSITY/光密度
OD值
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RESISTIVITY/電阻值
Ohm/Square 方阻值
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AL THICKNESS/鋁層厚度
Å 埃
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1.6
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3
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320
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1.8
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2.7
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360
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2.0
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2.35
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400
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2.2
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2.05
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440
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2.4
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1.8
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480
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2.6
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1.55
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520
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2.8
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1.3
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560
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3.0
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1.0
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600
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注：1um＝1000納米＝10000埃
2、鍍鋁層附著牢度的檢測(cè)
鍍鋁層牢度通常的檢測(cè)方法是膠帶檢測(cè)法，即將長(zhǎng)15－20cm ，寬0.5-1 inch的3M Scotch膠帶貼合在鍍鋁薄膜的鍍鋁層上并將其壓平，然后以均勻的速度將膠帶剝離，觀察并估計(jì)鍍鋁層被剝離的面積，面積小于10％為一級(jí)、小于30％為二級(jí)、大于30％為三級(jí)。
膠帶檢測(cè)法只是一種定性的檢測(cè)方法，只適合于一般的定性比較，如果鍍鋁層的附著牢度超過(guò)膠帶的粘結(jié)力，則分別不出鍍鋁層附著牢度的差別?，F(xiàn)在常用的定量檢測(cè)方法是在一定的溫度、壓力和時(shí)間下，用EAA薄膜（厚度20－50um，AA含量一般在9％左右）與鍍鋁膜的鍍鋁層進(jìn)行熱封，將熱封后的樣品裁成15mm寬，在拉力試驗(yàn)機(jī)上進(jìn)行剝離試驗(yàn)，觀察并記錄剝離力的大小以及鍍鋁層被剝離的面積。
3、外觀檢驗(yàn)
鍍鋁薄膜的外觀檢驗(yàn)主要包括如下方面的內(nèi)容：
（1）針孔（濺射點(diǎn)） 鍍鋁時(shí)如蒸發(fā)舟的溫度控制不良或送絲點(diǎn)的位置不好等情況會(huì)造成鋁液發(fā)生濺射，如濺射的鋁液達(dá)到薄膜上會(huì)在薄膜上形成小的針孔，鍍鋁薄膜上的針孔過(guò)多會(huì)造成薄膜阻隔性能的下降。一般情況下允許鍍鋁薄膜的針孔數(shù)量為2－3個(gè)/m2。
（2）鍍空線（軌道線） 用纏繞式真空鍍鋁機(jī)生產(chǎn)鍍鋁薄膜時(shí)，如基材薄膜在蒸鍍區(qū)有皺折，則折疊在里面的薄膜就不會(huì)有鋁層附著，從而在鍍鋁薄膜上形成線狀的鋁層較淺的區(qū)域被稱為鍍空線。鍍空線主要在CPP、PE等性質(zhì)較軟的基材薄膜上產(chǎn)生。
（3）鍍鋁面刮傷（劃痕） 這種現(xiàn)象主要是由于鍍鋁薄膜在運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中，鍍鋁層被導(dǎo)輥上的異物損傷造成。
鍍鋁層的厚度測(cè)試現(xiàn)在所知的有四種：
1、高倍電子顯微鏡直接測(cè)量，精確度為10E-10米，也就是0.1納米（1米＝1000mm，1mm＝1000微米，1微米＝1000納米，1納米＝10埃米）。鍍鋁層的厚度一般為30埃米至800埃米之間。－－這個(gè)方法對(duì)鍍鋁層厚度方向上的斷面取樣手法要求極高，其精確度影響較大，但是所得數(shù)據(jù)是最為直接的物理測(cè)量。
2、方塊電阻法測(cè)量，我國(guó)有國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 15717-1995 《真空金屬鍍層厚度測(cè)試方法電阻法》。此標(biāo)準(zhǔn)中有詳細(xì)的方法描述，你有興趣可以下載下來(lái)看看。－－這是一種模擬檢測(cè)手段，有一定誤差，尤其是對(duì)半透明鍍鋁膜的檢測(cè)，簡(jiǎn)直無(wú)法進(jìn)行。
3、用光密度儀進(jìn)行檢測(cè)：目前這種儀器在物理學(xué)的原理方面是一樣的，但是奇怪的是連美國(guó)都有兩家公司生產(chǎn)的光密度儀居然差別很大，一種是TOBIAS牌的，另一種是愛(ài)色麗（X-rite)生產(chǎn)的系列儀器。－－它是用光學(xué)透視的方法來(lái)?yè)Q算鍍鋁層的厚度，也是一種模擬檢測(cè)方法。這種儀器可以適用于半透明鍍鋁膜，也能適用于不透明鍍鋁膜。
4、用透光率儀進(jìn)行檢測(cè)：儀器很多，但全球標(biāo)準(zhǔn)都不統(tǒng)一，也是一種模擬檢測(cè)方法，適用于半透明鍍鋁膜的檢測(cè)。